【摘 要】
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光刻是集成电路制造环节的一项重要工艺,主要通过光刻机来完成。作为其重要组成部分,掩模台的性能直接决定了能生产的芯片制程和效率,其工作特点对掩模台提出各种要求,例如：大
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光刻是集成电路制造环节的一项重要工艺,主要通过光刻机来完成。作为其重要组成部分,掩模台的性能直接决定了能生产的芯片制程和效率,其工作特点对掩模台提出各种要求,例如：大行程、高精度等。本文采用了一种宏微结合的控制方案,即宏动部分实现大行程粗定位,微动实现小行程精定位。并利用PID控制算法配合高精度的传感器在实验室实验这套控制方案。文章介绍了系统构成,宏微控制策略,以及各个环节的实现,并分析了最后的实验结果 ,为今后的掩模台控制系统设计提供参考依据。
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