掩模台相关论文
产率作为光刻机三大关键指标之一，在高端光刻机中占有重要的地位，而掩模台位移测量系统的计算周期直接影响着产率，因此研究掩模台位移......
光刻机掩模台是光刻机运动控制系统中关键的运动机构之一，其作用是承载掩模片与工件台协同运动共同完成对硅片的扫描光刻任务。本文......
光刻机作为高端超精密加工装备的代表,在大规模集成电路制造领域发挥了无可替代的重要作用。掩模台作为光刻机的重要核心组成部分,......
光刻机是集成电路产业的基础设备,光刻机的线宽决定着集成电路的特征尺寸。光刻机研制水平的提高能够带动整个集成电路产业界的技......
飞行光学聚焦特性自适应控制主要是从事中国科学院仪器研制项目"激光光束质量控制仪"的研制,从理论和实验上解决飞行光学聚焦特性......
提出一种将零相位误差跟踪和前馈（ZPET-FF）与扩张状态观测器（ESO）相结合的重复控制方法,以提高宏动台直线电机伺服系统的跟踪性能.以ZP......
为提高光刻机掩模台系统的步进扫描品质,进而提高硅片成品质量,提出一种基于S曲线的轨迹规划。对迭代学习控制进行了研究,并针对普......
针对28nm浸没式扫描光刻机掩模台的光栅干涉仪位移测量系统,开展了系统热漂移研究,并进行了热漂移测试实验与结果分析。该位移测量......
为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机掩膜台宏动平台的控制问题,采用直线电机设计了高速、高精密步进扫描光刻机......
设计了一种基于多核DSP的高精度位移测量系统硬件在环仿真平台。本平台拥有以下优点:数值计算板卡内嵌多核DSP计算核心;多个计算核......
光刻是集成电路制造环节的一项重要工艺,主要通过光刻机来完成。作为其重要组成部分,掩模台的性能直接决定了能生产的芯片制程和效......
着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。......
掩模台及硅片台的同步控制是步进扫描投影光刻机工作过程中的关键技术，两运动平台之间的同步性能直接影响到芯片的特征尺寸、套刻精......
阐述了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的功能与构成,并通过对国内外100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的技术现状的......
针对光刻机掩模台控制系统中存在影响控制精度的机械模态,提出了一种djerk前馈控制方法。该方法在加速度前馈基础上引入一种新的前......
光刻机的制造建立在一个国家强大的科技实力和工业基础之上。光刻机的研发需要多个学科的交叉合作。掩模台在光刻机工作中负责实现......
在信息时代，大规模集成电路制造技术的重要性日益凸显，而光刻机作为集成电路制造的核心设备，其重要性是不言而喻的。双工件台及掩模台......
光刻机是大规模集成电路芯片制造的关键设备，它的性能指标直接影响到集成芯片的设计与应用范围。随着光刻机制作线宽的不断减小，生产......
光刻机作为大规模集成电路制造的重要生产工具，日益成为衡量一个国家高新技术发展的重要指标。而作为光刻机重要部件之一的工件台和......
