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激光等离子体和气体放电EUV光刻光源
激光等离子体和气体放电EUV光刻光源
来源 :激光技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:oicq35952268
【摘 要】
:
对激光等离子体和气体放电两种EUV光刻光源的发展状况进行了详细介绍,分析了各种激光条件和放电方式的特点及所面临的主要问题,对各种方案的特点、技术参数进行了对比.气体放
【作 者】
:
程元丽
李思宁
王骐
【机 构】
:
哈尔滨工业大学
【出 处】
:
激光技术
【发表日期】
:
2004年6期
【关键词】
:
极紫外光刻
EUV光刻光源
激光等离子体
气体放电
EUV lithography
EUV source
laser induced pl asma
disch
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对激光等离子体和气体放电两种EUV光刻光源的发展状况进行了详细介绍,分析了各种激光条件和放电方式的特点及所面临的主要问题,对各种方案的特点、技术参数进行了对比.气体放电装置较高能激光装置结构简单、价格低,故气体放电EUV光源日益受到重视.
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