【摘 要】
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由非离子型Gemini表面活性剂TMDD（HO（EO）xC14（EO）yOH）为结构导向模板，改进EISA（挥发诱导自组装）镀膜工艺经300℃焙烧制得具有连续、均一和光学透明特点的蠕虫介孔纳米晶孔壁氧化钨薄膜
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所特种无机涂层重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金（59932040-2）及国家重点基础研究发展规划（973）项目（2009CB939900）资助
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由非离子型Gemini表面活性剂TMDD（HO（EO）xC14（EO）yOH）为结构导向模板，改进EISA（挥发诱导自组装）镀膜工艺经300℃焙烧制得具有连续、均一和光学透明特点的蠕虫介孔纳米晶孔壁氧化钨薄膜．采用SEM、TEM和Raman光谱对此种薄膜的介孔纳米结构进行了表征，通过光谱电化学、XPS和椭偏谱等方法，研究了该薄膜在电解质溶液中的电致变色行为．结果表明，所制备的纳米结构氧化钨薄膜在633nm波长处的循环可逆透过率调制幅度可达75％以上，并且其电致变色机理具有显著的双注入吸收调制特性．
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