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应用核反应分析法（ＮＲＡ）测量了反应溅射法制备ａ－Ｓｉ：Ｈ（Ｂ）薄膜中Ｂ和Ｈ的含量，结果表明，当掺杂比经Ｙｇ（＝（Ｂ２Ｈ２）／（Ａｒ）＋（Ｈ２））由１０＾－６增大到１．４×１０＾－２时，样品中的硼含量ＣＢ由１．０×１０＾１８线性增大到１．４×２０＾２２ａｔ．ｃｍ＾－３，而氢含量的变化分为三个区域；在微掺硼情况（Ｙｇ＝１０＾－６）样品中氢含量较未掺硼时高出１０％，当Ｙｇ＝１０＾－６到１０＾－３变化时