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铁磁形状记忆合金（FSMA）是一种新型智能材料，NiMnGa合金是这种材料的典型代表。使用直流磁控溅射方法在NaCl晶片上制备出Ni—MnGa薄膜，并对影响其制备的主要参数——溅射功率进行了探讨。通过对Ni—Mn-Ga薄膜的成分和薄膜表面性质的分析，得知22．5W为其制备的最佳功率。
铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜制备工艺研究
【摘 要】
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铁磁形状记忆合金（FSMA）是一种新型智能材料，NiMnGa合金是这种材料的典型代表。使用直流磁控溅射方法在NaCl晶片上制备出Ni—MnGa薄膜，并对影响其制备的主要参数——溅射功率进行
【机 构】
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江苏大学机械学院,钢铁研究总院功能材料研究所
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2005年F11期
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