退火温度对sol-gel制备的ZnO薄膜的结构影响

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qjilearn

【摘要】

：

采用sol-gel旋涂法在抛光硅<111>晶面生长了高度C轴取向的ZnO薄膜.DSC以及XRD测试结果显示此溶胶系统的最佳退火温度为450℃左右,更高的退火温度将对薄膜的择优取向产生不利

【作者】

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谷坤明汤皎宁李均钦杨钦鹏李翠华 YANG

【机构】

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深圳大学理学院材料系,深圳大学师范学院化生系

【出处】

：

功能材料与器件学报

【发表日期】

：

2005年3期

【关键词】

：

ZNO薄膜溶胶-凝胶法热处理 ZnO thin films sol-gel heat treatment

【基金项目】

：

广东省自然科学基金，广东省深圳市科技计划

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采用sol-gel旋涂法在抛光硅<111>晶面生长了高度C轴取向的ZnO薄膜.DSC以及XRD测试结果显示此溶胶系统的最佳退火温度为450℃左右,更高的退火温度将对薄膜的择优取向产生不利的影响.SEM显示薄膜表面致密、均匀、光滑,组成薄膜的颗粒尺寸在50～100nm,并显示出良好的C轴择优取向.

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