【摘 要】
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本文分析了金属薄膜反射率高对光刻精度的影响,提出用化学处理、氧化、氮化处理和沉积抗反射层等方法来降低金属薄膜的反射率,以提高金属薄膜的光刻精度。
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本文分析了金属薄膜反射率高对光刻精度的影响,提出用化学处理、氧化、氮化处理和沉积抗反射层等方法来降低金属薄膜的反射率,以提高金属薄膜的光刻精度。
In this paper, the influence of the high reflectivity of metal thin film on the lithography precision is analyzed. The methods of chemical treatment, oxidation, nitriding and deposition anti-reflective layer are proposed to reduce the reflectivity of the metal thin film to improve the lithography precision of the metal thin film.
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