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本文利用离子注入掺杂原子在热退火过程中的浓度分布SIMS数据计算了增强扩散系数的深度分布.这种增强扩散系数的分布反映了离子注入产生的损伤和缺陷分布及热运动特性
硅中离子注入掺杂原子的增强扩散系数的分布
【摘 要】
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本文利用离子注入掺杂原子在热退火过程中的浓度分布SIMS数据计算了增强扩散系数的深度分布.这种增强扩散系数的分布反映了离子注入产生的损伤和缺陷分布及热运动特性
【机 构】
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South-WestInstofTechnicalPhysics
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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1989年8期
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