【摘 要】
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据报导、美国莫斯特克(Mostek)公司成功的将MOS自排列工艺与离子注入耗尽负载结合使用,从而提高功能密度,要求功耗小而速度高,可与N沟道硅栅MOS相比较。具
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据报导、美国莫斯特克(Mostek)公司成功的将MOS自排列工艺与离子注入耗尽负载结合使用,从而提高功能密度,要求功耗小而速度高,可与N沟道硅栅MOS相比较。具
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