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薄膜厚度的均匀性是影响沉积方法应用的一个重要因素.利用脉冲电弧离子镀技术在硅基片上沉积类金刚石薄膜,并用轮廓仪对薄膜的厚度进行测量,研究了不同参数对薄膜均匀性的影响.结果表明:离子源阴极和基片的距离、主回路工作电压以及沉积频率都不同程度地影响薄膜均匀性,文章还就不同类型离子源对薄膜均匀性的影响进行了探讨.