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本文介绍了离子注入工艺的基本特点和工艺中应注意的几个问题，对离子注入在浅结形成及化合物半导体集成电路工艺中的应用进行了描述。
离子注入工艺技术
【摘 要】
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本文介绍了离子注入工艺的基本特点和工艺中应注意的几个问题，对离子注入在浅结形成及化合物半导体集成电路工艺中的应用进行了描述。
【机 构】
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中国兵器工业第214研究所
【出 处】
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集成电路通讯
【发表日期】
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2005年4期
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