【摘 要】
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采用脉冲髙斯激光光束Ζ扫描方法测Μ了用磁控共溅射技术制备的InP/SiO2纳米颗粒薄膜的非线性光学性质。测量结果表明, 在激光波长为585 nm(非共振)的条件下, 经310 ℃退火的薄膜的非线性折射率系数γ的大小为10^{-11} m2/W量级, 比块材InP晶体相应的数值提高了5个数量级。薄膜的光学非线性对退火温度相当敏感。光学非线性增强主要起因于光致载流子的强量子限制效应和大量的局域态的振子强度的增强。
【机 构】
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五邑大学薄膜与纳米材料研究所,江门529020中山大学超快速激光光谱国家重点实验室,广州510275香港中文大学电子工程系,新界,香港
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采用脉冲髙斯激光光束Ζ扫描方法测Μ了用磁控共溅射技术制备的InP/SiO2纳米颗粒薄膜的非线性光学性质。测量结果表明, 在激光波长为585 nm(非共振)的条件下, 经310 ℃退火的薄膜的非线性折射率系数γ的大小为10^{-11} m2/W量级, 比块材InP晶体相应的数值提高了5个数量级。薄膜的光学非线性对退火温度相当敏感。光学非线性增强主要起因于光致载流子的强量子限制效应和大量的局域态的振子强度的增强。
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