【摘 要】
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采用不同Si含量的TiSi复合靶和Cr靶，用射频磁控溅射工艺在Si基底片上沉积不同Si含量的CrN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪（XRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）和纳米压痕仪研究
【机 构】
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上海理工大学机械工程学院,上海理工大学材料科学与工程学院
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采用不同Si含量的TiSi复合靶和Cr靶，用射频磁控溅射工艺在Si基底片上沉积不同Si含量的CrN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪（XRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）和纳米压痕仪研究Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响。结果表明：随着Si含量的增加，CrN相的结晶程度先增加后降低，涂层的力学性能先提高后降低，当n（Si）：n（Ti）=7：18时获得最高硬度为31.5GPa。HRTEM观测表明，在n（Si）：n（Ti）=7：18时，TiSiN层在CrN层的模板作用
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