【摘 要】
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利用介质阻挡放电 ,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮 .研究表明 ,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层 ,而且省去了真空放电下必须的真
【机 构】
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利用介质阻挡放电 ,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮 .研究表明 ,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层 ,而且省去了真空放电下必须的真空设备 ,整个工艺过程操作简便 ,是一种很有发展前景的新工艺 .此外 ,还分析了渗层深度及硬度随放电间隙不同的变化规律 .
The dielectric barrier discharge was used to carry out atmospheric pressure non-equilibrium plasma nitriding on a self-developed device. The results show that the new process not only has a deep layer and a white layer on the surface of the sample in a very short period of time, Vacuum equipment necessary for vacuum discharge, the entire process is easy to operate, is a promising new technology.In addition, the analysis of the depth and hardness of the diffusion layer with different discharge gap variation.
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