【摘 要】
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本文重点对近年硬质合金基体表面预处理方法及其对CVD金刚石膜沉积的影响进行了综述。按其原理来分,预处理方法可分为物理预处理法、化学预处理法以及中间层法。大量实验结果
【机 构】
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广东工业大学材料与能源学院,华南理工大学分析测试中心,广东工业大学材料与能源学院,广东工业大学材料与能源学院,华南理工大学分析测试中心,华南理工大学分析测试中心,华南理工大学分析测试中心,广东工业大学
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本文重点对近年硬质合金基体表面预处理方法及其对CVD金刚石膜沉积的影响进行了综述。按其原理来分,预处理方法可分为物理预处理法、化学预处理法以及中间层法。大量实验结果表明通过适当的预处理能有效消除或抑制基体中钴黏结相的负面影响,提高金刚石的形核密度以及膜基结合力,从而获得理想的薄膜质量。
This article focuses on the recent cemented carbide substrate surface pretreatment methods and CVD diamond film deposition are reviewed. Divided according to its principle, pretreatment methods can be divided into physical pretreatment method, chemical pretreatment method and the middle layer method. A large number of experimental results show that the proper pretreatment can effectively eliminate or inhibit the negative influence of the cobalt binder phase in the matrix, and improve the diamond nucleation density and film-based bonding force to obtain the desired film quality.
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