【摘 要】
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一、前言国内唯一的一台标准磁控管型H~-离子源已在1983年完成了桌上试验研究,达到了预期的指标。试验中发现,该源按弧功率估算应能引出更多的H~-束流(>50mA),H~-束流的引出
【机 构】
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中国科学院高能物理研究所,中国科学院高能物理研究所,中国科学院高能物理研究所,清华大学 北京rrrrrrrrn,北京rrrrrrrrn,北京rrrrrr
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一、前言国内唯一的一台标准磁控管型H~-离子源已在1983年完成了桌上试验研究,达到了预期的指标。试验中发现,该源按弧功率估算应能引出更多的H~-束流(>50mA),H~-束流的引出除受该装置引出电压(<18kV)的限制外,阴极表面利用系数低也限制了H~-束流的引出,为提高源的效率,引用了阴极-阳极引出狭缝形状聚焦技术,试制了一个带半圆
I. INTRODUCTION The only standard magnetron H ~ - ion source in China has completed the experiment on the table in 1983 and reached the expected target. It was found in the experiment that the source should draw more H ~ - beam current (> 50mA) according to the arc power, and the H ~ - beam current can be extracted by the device except the voltage of the device (<18kV) Low coefficient also limits the H ~ - beam out, in order to improve the efficiency of the source, cited the cathode - anode lead-out slit shape focusing technology, trial production of a semicircle
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