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一种提取电子束光刻中电子散射参数的新方法
一种提取电子束光刻中电子散射参数的新方法
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dddbj126
【摘 要】
:
在电子散射能量沉积为双高斯分布的前提下,提出了一种提取电子束光刻中电子散射参数α,β和η的新方法.该方法使用单线条作为测试图形.为了避免测定光刻胶的显影阈值,在实验数据处
【作 者】
:
康晓辉
李志刚
刘明
谢常青
陈宝钦
【机 构】
:
中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2005年3期
【关键词】
:
电子束光刻
临近效应
电子束临近效应校正
electronbeam lithography
proximity effect
electron-beam pro
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目(批准号:60276019)~~
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在电子散射能量沉积为双高斯分布的前提下,提出了一种提取电子束光刻中电子散射参数α,β和η的新方法.该方法使用单线条作为测试图形.为了避免测定光刻胶的显影阈值,在实验数据处理中使用归一化方法.此外,用此方法提取的电子散射参数被成功地用于相同实验条件下的电子束临近效应校正.
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