【摘 要】
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日本电电公司武藏野电气通讯研究所最近研究出一种能复印1微米图形的远紫外线掩模对准与曝光技术,该所采用PMMA抗蚀剂和软接触曝光方式,由于采用在合成石英基板上的CrOx/Cr
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日本电电公司武藏野电气通讯研究所最近研究出一种能复印1微米图形的远紫外线掩模对准与曝光技术,该所采用PMMA抗蚀剂和软接触曝光方式,由于采用在合成石英基板上的CrOx/Cr掩模,比起过去的掩模来耐久性大大提高,实用上没什么问题.
Japan's Musashino Electric Telecommunication Research Institute Musashi recently developed a copy of the 1 micron pattern far ultraviolet mask alignment and exposure technology, the use of PMMA resist and soft-contact exposure, the use of synthetic quartz substrate On the CrOx / Cr mask, compared to the past mask to greatly enhance the durability, no problem in practicality.
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