【摘 要】
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利用飞秒脉冲激光沉积（PLD）法在Si（100）基片上制备大面积均匀的ZnO薄膜，通过激光束、靶材及衬底的运动使得所制备的薄膜均匀性面积大小不受限制。x射线衍射（XRD）结果显示，所制备的薄
【基金项目】
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基金项目：湖北省教育厅（B20112501）资助项目
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利用飞秒脉冲激光沉积（PLD）法在Si（100）基片上制备大面积均匀的ZnO薄膜，通过激光束、靶材及衬底的运动使得所制备的薄膜均匀性面积大小不受限制。x射线衍射（XRD）结果显示，所制备的薄膜具有典型的六方纤锌矿结构，并沿（002）方向高度择优取向生长。场扫描电子显微镜（FESEM）显示，薄膜是沿垂直于衬底方向生长的六方柱状纳米晶，且膜厚均匀。紫外一可见光谱透射率显示，所制备的薄膜在380nm附近有一陡峭的吸收边，在可见光波段具有90％以上的透过率。光致发光（PL）光谱显示，薄膜在377nm处有一强而窄的
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