HfO_2/SiO_2多层高反膜脉冲YAG激光预处理机理的研究

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本文研究了HfO2 /SiO2 多层高反膜脉冲YAG激光预处理提高抗激光损伤阈值的机理。通过分析和计算 ,我们提出了一种物理模型 ,即热扩散模型。由于扩散结果 ,导致HfO2 膜层的折射率增加 ,致使HfO2 、SiO2 膜层交界处光驻波波峰降低 ,从而提高了薄膜抗激光损伤阈值 In this paper, the mechanism of HfO2 / SiO2 multi-layer high-reflective film pulsed YAG laser pretreatment to improve the anti-laser damage threshold was studied. Through analysis and calculation, we propose a physical model, namely thermal diffusion model. As a result of the diffusion, the refractive index of the HfO2 film increases, causing the peak of the standing wave of the HfO2 and SiO2 films to decrease, thereby increasing the anti-laser damage threshold of the film
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