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采用PLD（脉冲激光沉积）技术在单晶硅（100）基片上制备出性能优良的ZnO薄膜，并通过XRD（X射线衍射仪）和SEM（扫描电镜）检测了其结晶情况，并分析了其沉积温度和结晶质量之间的相互关系，结果表明600℃时沉积的氧化锌薄膜材料的结晶性能最好。
沉积温度对ZnO薄膜波导的PLD生长影响的实验研究
【摘 要】
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采用PLD（脉冲激光沉积）技术在单晶硅（100）基片上制备出性能优良的ZnO薄膜，并通过XRD（X射线衍射仪）和SEM（扫描电镜）检测了其结晶情况，并分析了其沉积温度和结晶质量之间的相互关系，结果表
【机 构】
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华南农业大学理学院应用物理系,江西师范大学物理与通信电子学院
【出 处】
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江西科学
【发表日期】
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2007年2期
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