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近年来，微型机电系统技术高速发展，对作为其基础技术的微细加工设备的需求也越来越大。重点讨论接近式深度光刻机的掩膜和硅片间的衍射，其中对掩膜与硅片间的夫琅和费衍射和菲涅尔衍射进行了区别，并提出了接近深度光刻机掩模－硅片间的衍射应属于菲涅尔衍射，同时具体分析了单缝型掩模的菲涅尔衍射公式。对深入理解和认识接近式深度光刻机的掩膜－硅片间衍射的物理本质提供了更为方便的研究手段。