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采用CVD工艺在反应烧结碳化硅（RB—SiC）反射镜坯体上沉积了一层致密的碳化硅薄膜作为反射镜镜面。CVD—SiC和RB—SiC热物理性能上的差异引起的热残余应力和热变形，在很大程度上影响反射镜的质量，本文采用有限单元法计算了沉积过程中反射镜的温度场、应力场和热变形，采用X射线衍射方法测试了薄膜表面的残余应力。分析结果表明，薄膜存在较大的残余应力，包括热应力和本征应力，两者量值相当，热变形很小。