【摘 要】
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使用等离子体增强化学气相沉积（PE—CVD）的方法，以TTIP（Ti（OC3H7）4）为单体，用氧气为载气，以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜，分析探讨在射频等离子体增强化学气相
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使用等离子体增强化学气相沉积（PE—CVD）的方法，以TTIP（Ti（OC3H7）4）为单体，用氧气为载气，以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜，分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中，基片上施加脉冲偏压和远离脉冲偏压的情况下成膜的比较．在沉积的过程中，利用USB-2000型光纤光谱仪对等离子体的发射光谱进行测量，定性分析等离子体沉积过程中的成分组成．用UV-1901探讨薄膜的光学特性，发现紫外和近紫外区域有一定吸收；用扫描电镜分析薄膜表面形貌的变化，可以看到偏压下
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