【摘 要】
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为了达到水体中重金属离子和有机污染物同时高效去除的目的,采用表面引发原子转移自由基聚合法,将疏水单体苯乙烯、亲水单体聚乙二醇甲基丙烯酸酯接枝在纳米SiO2上,得到了SiO2基杂化两亲性嵌段共聚物吸附剂SiO2-g-PS-b-P(PEGMA).当吸附剂的投加量为200 mg/L,振荡速率为80 r/min,pH值为6,温度为25℃时,吸附剂S1对Cu2+的平衡吸附量达到90.41 mg/g,去除率达到90.40%;吸附剂S2对油酸钠的平衡吸附量达到315.36 mg/g,去除率达到63.07%.吸附剂对Cu
【机 构】
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商洛学院 化学工程与现代材料学院,陕西 商洛 726000;陕西省尾矿资源综合利用重点实验室,陕西 商洛 726000;陕西省矿产资源清洁高效转化与新材料工程研究中心,陕西 商洛 726000;商洛学
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为了达到水体中重金属离子和有机污染物同时高效去除的目的,采用表面引发原子转移自由基聚合法,将疏水单体苯乙烯、亲水单体聚乙二醇甲基丙烯酸酯接枝在纳米SiO2上,得到了SiO2基杂化两亲性嵌段共聚物吸附剂SiO2-g-PS-b-P(PEGMA).当吸附剂的投加量为200 mg/L,振荡速率为80 r/min,pH值为6,温度为25℃时,吸附剂S1对Cu2+的平衡吸附量达到90.41 mg/g,去除率达到90.40%;吸附剂S2对油酸钠的平衡吸附量达到315.36 mg/g,去除率达到63.07%.吸附剂对Cu2+、油酸钠的吸附符合准二级动力学模型,疏水性链段比例的增加有利于有机污染物的吸附,亲水性链段比例的增加有利于水溶性重金属离子的去除.
其他文献
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现有国产氧化钒非制冷红外探测器多采用挡板校正进行非均匀性校正,导致结构复杂与图像中断,从而影响探测器的正常使用.提出了一种新型无挡板非均匀校正方法,首次结合基于定标校正与场景校正的非均匀校正方法,实现了对非制冷红外探测器的无挡板校正.实验结果表明,该方法能在开始校正后快速实现非均匀校正,校正效果良好,并且不存在传统场景校正方法存在的“鬼影”问题.该方法避免了红外成像系统的图像中断问题,同时有助于减少红外成像系统的体积与功耗.
针对3~5 μm机载中波红外系统复杂气象条件下对地目标探测识别问题,在理论研究的基础上,采用PcModWin大气仿真软件,进行了清洁大气、雾、云、雨等气象条件下的模拟仿真实验,分析了不同气象条件下不同距离范围内该波段红外辐射透过率分布曲线和峰值参数的变化规律,结合大气分子学理论,证明了探测角度、大气能见度、雾型、云层类型、降雨(雪)强度等,都是影响该波段机载红外系统对地目标探测识别效果的重要因素,提出了工程运用中应当采取的策略方法.研究结果对后续工程试验和运用实践具有指导作用,可提高该波段机载红外系统的应
通过水热合成和沉积沉淀法合成了一系列双金属Ce和Ni掺杂OMS-2(Ce/Ni-OMS-2)催化剂,并将其应用于催化臭氧氧化去除草酸(OA)的研究.系统地考察了掺杂比、催化剂投加量、OA浓度、初始pH值对Ce/Ni-OMS-2催化臭氧降解草酸的影响,其中双金属掺杂催化剂Ce/Ni-OMS-2(1:5)在反应30 min后,OA的降解率达到了100%.通过多种表征手段对催化材料的理化性质进行了全面探讨,双金属Ce和Ni通过替换孔道中的K+成功掺杂到OMS-2中,显著增加了催化剂的比表面积和低价Mn的含量.此
基于活性污泥的传统脱氮除磷工艺满足不了日益严格的废水处理要求,废水处理必须进行提质增效.MBBR工艺易于利用现状设施原位与不同工艺进行结合,实现提标和节能降耗.阐述了MBBR工艺原理,分析了MBBR工艺特征、影响因素和升级改造路线,分别对形成的复合A2/O-MBBR、氧化沟-MBBR、SBR-MBBR和Bardenpho-MBBR工艺进行了案例说明,结合当前研究现状对该领域进行了展望,为提升MBBR在废水处理升级改造工程中的应用推广提供支持.
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抗生素是治疗人类和动植物感染性疾病的核心药物,已成为全球使用范围最广、使用剂量最大的药物之一.近年来随着抗生素的广泛使用,大量抗生素进入环境中,会诱导抗生素抗性基因(ARG)产生,对人类健康及环境构成威胁.抗生素抗性菌(ARB)和ARG的环境排放问题日益凸显.制药废水处理系统是环境中抗生素的主要来源之一,也是ARB和ARG增殖扩散的热点场所,同时是控制ARB和ARG环境排放的重要节点.系统总结了近年来有关制药废水处理系统中ARG的研究进展、ARG的增殖扩散机制、各种处理单元中ARG的分布特征和去除效果,对
对商业化的苦咸水反渗透膜片的脱硼性能进行研究,考察了进水pH值、压力、温度、NaCl浓度、硼浓度以及膜表面流速等对苦咸水膜脱硼性能的影响.结果表明:不同测试条件下苦咸水反渗透膜元件和膜片脱硼性能影响基本一致.在各种影响因素中,进水pH值影响最明显,脱硼率随着pH值的增加而大幅增大.在pH值小于10的条件下,脱硼率随进水压力增加而增大;在pH值大于或等于10的条件下,脱硼率基本不受进水压力影响.进水温度的升高和NaCl浓度的增大都会降低脱硼率.进水硼浓度和膜表面流速对膜片脱硼率影响较小.
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