【摘 要】
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近年来研究表明,在微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）制备金刚石的过程中,增大反应气压和微波功率是提高金刚石生长速率的有效途径。本文采用自主改进的圆柱谐振腔式MPCVD装置
【机 构】
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常州大学材料科学与工程学院,常州宝颐金刚石科技有限公司
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近年来研究表明,在微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）制备金刚石的过程中,增大反应气压和微波功率是提高金刚石生长速率的有效途径。本文采用自主改进的圆柱谐振腔式MPCVD装置,以H2-CH4为气源,在反应气压30 kPa、微波功率5.8 kW、CH4浓度不同的条件下进行了多晶金刚石膜的制备研究,并采用扫描电镜、X-射线衍射和激光拉曼光谱技术对所制备样品的表面形貌、物相及品质进行了分析。结果表明,CH4浓度由2.5%提高至5%,金刚石膜的质量较好,沉积速率由7.5μm/h提高至27.5μm/h。
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