溅射镀Ni-Co磁性膜的研究

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用电镀方法制作磁性靶材,在真空室中增设磁场进行溅射镀Ni-Co磁膜的方法。此方法已应用于计算机磁盘的生产中。 A magnetic target is prepared by an electroplating method, and a magnetic field is applied to a vacuum chamber to sputter-deposit a Ni-Co magnetic film. This method has been applied to the production of computer disks.
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