适于ArF准分子激光蚀刻用的紫外光学材料

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日本东北大学金属材料研究所的福田承生教授及分子科学研究所的猿仓信彦副教授等研究小组经研究发现,LiCaAlF6这种晶体是适于用ArF(氯化氩)准分子激光刻蚀的透镜、光阑用材料.目前半导体制作用多选择波长248nm的KrF(氟化氪)准分子激光器,未来波长193nm的ArF激光器将有希 Fujiyama Fukuda, a professor at Japan’s Tohoku University Institute of Metal Materials and a research group led by Associate Professor Tsutsui Tsutsumi of Molecular Science Institute, have found that LiCaAlF6, a crystal suitable for laser ablation with ArF (argon chloride) excimer laser, , Diaphragm material. At present, the semiconductor fabrication uses a KrF (krypton fluoride) excimer laser with a multi-selection wavelength of 248 nm. The future ArF laser with a wavelength of 193 nm
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