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期刊论文
Ta/Al合金薄膜中功率衰减器的研究
Ta/Al合金薄膜中功率衰减器的研究
来源 :电子科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:youxiang123hao
【摘 要】
:
介绍了一种用于微波电路的中功率薄膜衰减器。该衰减器是由铝原子含量为50%的Ta/Al合金薄膜制成。其性能优良。
【作 者】
:
贾宇明
杨邦朝
【出 处】
:
电子科技大学学报
【发表日期】
:
1993年2期
【关键词】
:
薄膜集成电路
衰减器
微波衰减器
thin film integrated circuit
Tantalum-base
attenuator
microw
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介绍了一种用于微波电路的中功率薄膜衰减器。该衰减器是由铝原子含量为50%的Ta/Al合金薄膜制成。其性能优良。
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