【摘 要】
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提出了一种无氰电沉积光亮铜锡合金的新工艺．其溶液组成及操作条件为：Ｎａ３Ｃ６Ｈ５Ｏ７·２Ｈ２Ｏ９０～１２０，Ｎａ２ＥＤＴＡ·２Ｈ２Ｏ２５～３５，稳定剂ＷＤＺ－９４３１０～１５，ＣｕＳＯ４·５Ｈ２Ｏ２０～４０，ＳｎＣｌ２·２Ｈ２Ｏ２０～４０ｇ·Ｌ－１；溶液的ｐＨ＝５～６，Ｄｋ＝１０～１５０Ａ·ｍ－２，Ｔ＝５０～６０℃．在上述条件下可获得含锡量为５％～１５％的光亮、细致、均匀的铜锡合金沉积层．还讨论了溶液
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提出了一种无氰电沉积光亮铜锡合金的新工艺．其溶液组成及操作条件为：Ｎａ３Ｃ６Ｈ５Ｏ７·２Ｈ２Ｏ９０～１２０，Ｎａ２ＥＤＴＡ·２Ｈ２Ｏ２５～３５，稳定剂ＷＤＺ－９４３１０～１５，ＣｕＳＯ４·５Ｈ２Ｏ２０～４０，ＳｎＣｌ２·２Ｈ２Ｏ２０～４０ｇ·Ｌ－１；溶液的ｐＨ＝５～６，Ｄｋ＝１０～１５０Ａ·ｍ－２，Ｔ＝５０～６０℃．在上述条件下可获得含锡量为５％～１５％的光亮、细致、均匀的铜锡合金沉积层．还讨论了溶液的温度、阴极电流密度对合金沉积层中锡量以及阴极电流效率的影响．
A new technology of cyanide electroless deposition of bright copper-tin alloy was proposed. The solution composition and operating conditions are as follows: Na3C6H5O7 · 2H2O 90-120, Na2EDTA · 2H2O 25-35, stabilizer WDZ-94310-15, CuSO4 · 5H2O 20-40, SnCl2 · 2H2O 20-40g · L-1; 6, Dk = 10-150A · m-2, T = 50-60 ° C. Under the above conditions, a bright, detailed and uniform copper-tin alloy deposit with a tin content of 5% -15% can be obtained. The effect of solution temperature and cathodic current density on the amount of tin in the alloy deposit and the cathode current efficiency was also discussed.
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