【摘 要】
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以2012型的叠层片式磁珠作为研究对象,研究分析了电镀过程中电流密度对磁珠的镀层形貌、显微结构及电性能一致性的影响。结果表明,当镀Ni电流较小时,Ni层易附着在磁体端银上
【机 构】
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深圳振华富电子有限公司,深圳信息职业技术学院,哈尔滨工业大学深圳研究生院材料科学与工程学院
【基金项目】
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国防科工局基础科研项目资助;深圳市海外高层次人才创新创业项目(No.20150303084059)
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以2012型的叠层片式磁珠作为研究对象,研究分析了电镀过程中电流密度对磁珠的镀层形貌、显微结构及电性能一致性的影响。结果表明,当镀Ni电流较小时,Ni层易附着在磁体端银上扩散,影响产品的外观。当镀Sn电流较大时,Sn层晶核在磁体表面迅速形成并快速生长,出现Sn层的严重扩散。配合采用较大镀镍电流（10 A）和较小镀锡电流（6 A）有利于防止端头镀层的扩散,改善产品外观形貌、并有助于提高阻抗一致性。
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