【摘 要】
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摘要：采用ZrCl4-CH4-H2-Ar与ZrCl4-TaCl5-CH4-H2-Ar反应体系，用化学气相沉积（CVD）N备ZrC涂层与ZrC-TaC共沉积涂层，并对其进行氧-乙炔焰烧蚀试验研究。利用X射线衍射（XRD）和扫描电镜（S
【机 构】
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航天材料及工艺研究所先进功能复合材料技术重点实验室,中南大学粉末冶金国家重点实验室
【基金项目】
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国家重点基础研究发展计划资助项目（2011CB605805）
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摘要：采用ZrCl4-CH4-H2-Ar与ZrCl4-TaCl5-CH4-H2-Ar反应体系，用化学气相沉积（CVD）N备ZrC涂层与ZrC-TaC共沉积涂层，并对其进行氧-乙炔焰烧蚀试验研究。利用X射线衍射（XRD）和扫描电镜（SEM）等分析技术对烧蚀前后ZrC与ZrC-TaC共沉积涂层的相组成及微观结构进行表征，并分析2种涂层的烧蚀机理。结果表明：ZrC涂层为细柱状晶体组织，ZrC-TaC共沉积涂层为ZrC与TaC成分周期性波动自组装多层复合结构，具有良好的组织结构可控性。经过60S氧-乙炔焰烧蚀试验
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