【摘 要】
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1988年12月28日,我所研制的LC—4型700keV高能离子注入机(外观图见本期封面)在北京通过了由机械电子部主持的科技成果鉴定,它标志着又一项国家重大科研项目被攻克。该机的研
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1988年12月28日,我所研制的LC—4型700keV高能离子注入机(外观图见本期封面)在北京通过了由机械电子部主持的科技成果鉴定,它标志着又一项国家重大科研项目被攻克。该机的研制成功为开展高能离子注入的研究和研制新型集成电路、发光器件、光接收器件、化合物半导体器件、磁性器件及探求新型的发光材料、磁性材料、半导体材料、金属材料、超导材料等提供了重要的手段。
December 28, 1988, I developed the LC-4 700keV high-energy ion implanter (see the cover of this issue) passed in Beijing by the Ministry of Mechanical and electronic science and technology appraisal, it marks another major national Research projects have been overcome. The successful development of the aircraft to carry out high-energy ion implantation research and development of new integrated circuits, light emitting devices, light receiving devices, compound semiconductor devices, magnetic devices and the search for new luminescent materials, magnetic materials, semiconductor materials, metal materials, superconducting materials Etc. provides an important means.
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