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基态施主能级分裂因素被引入了SiC基MOS电容模型。考虑到能级分裂后,电容C—V特性曲线平带附近的Kink效应,得到有效减弱;并且能级分裂对C—V特性的影响,随掺杂浓度的增加和温度的降低而增强,同时也与杂质能级深度相关。对于耗尽区和弱积累区,由于能级分裂的影响,电容的表面电荷面密度将分别有所增加和降低。