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主要是以氧化镓为原料,通过气相沉积法,制备出GaN纳米线和纳米带.通过X-射线衍射（XRD）,扫面电镜（SEM）和高分辨透射电镜（HRTEM）等测试手段对其形貌进行了表征和分析.研究了实验过程中工艺条件的改变对所制备GaN纳米结构形貌特征的影响.对两种GaN纳米材料的拉曼散射光谱进行了分析.
氮化镓低维纳米结构的制备与表征
【摘 要】
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主要是以氧化镓为原料,通过气相沉积法,制备出GaN纳米线和纳米带.通过X-射线衍射（XRD）,扫面电镜（SEM）和高分辨透射电镜（HRTEM）等测试手段对其形貌进行了表征和分析.研究了实验过程
【机 构】
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山东大学材料科学与工程学院
【出 处】
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山东大学学报(工学版)
【发表日期】
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2007年1期
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