【摘 要】
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利用射频磁控溅射系统制备了调制周期为30nm的具有不同调制比例的ZrN／W2N纳米多层膜。研究表明：ZrN／W2N纳米多层膜的界面清晰，通过把ZrN周期性地插入到W2N层，多层薄膜的整体应力得
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利用射频磁控溅射系统制备了调制周期为30nm的具有不同调制比例的ZrN／W2N纳米多层膜。研究表明：ZrN／W2N纳米多层膜的界面清晰，通过把ZrN周期性地插入到W2N层，多层薄膜的整体应力得到缓解。在调制比tZrN：tW2N=2：3时，纳米多层膜的应力值最小。多层膜的硬度和弹性模量基本高于ZrN和W2N单层材料的平均值，随着调制比的减小，它们的值均有上升趋势，并在tZrN：tW2N=2：3时分别达到最高值34GPa和424GPa，同时多层膜的膜基结合强度也达到最佳效果，其临界载荷超过了100mN。多层膜
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