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<正> 一、前言 在热氧化后的硅片上,经常出现密集分布的雾缺陷。在器件工艺中,雾缺陷的存在将严重影响器件工艺的成品率,所以很久以来硅片上的雾缺陷一直引起人们的极大注意,已有许多关于这方面工作的报道,至今仍是重要研究课题之一。W.T.Stacy等将金属工具(摄子等)轻划(111)硅片表面以引起金属沾污,然后进行热氧化,以研究金属杂质在雾缺陷形成中的作用。孙安纳等用含铁等金属杂质溶液对直拉〈111〉硅外延片进行有意沾污,观察Fe等金