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适于薄膜SOI RESURF器件击穿电压模拟的高阶紧致差分格式离散的ADI方法
适于薄膜SOI RESURF器件击穿电压模拟的高阶紧致差分格式离散的ADI方法
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tzxue
【摘 要】
:
采用ADI与高阶紧致差分相结合的方法计算薄膜SOI RESURF结构击穿电压.数值计算表明,这种方法可以降低方程的迭代次数约40%,并明显减少方程的求解时间.
【作 者】
:
于宗光
刘战
王国章
须自明
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第58研究所,江南大学信息工程学院
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2006年2期
【关键词】
:
ADI
高阶紧致差分
SOI
RESURF
击穿电压
ADh high-order compact finite difference
SOl
RESURF
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采用ADI与高阶紧致差分相结合的方法计算薄膜SOI RESURF结构击穿电压.数值计算表明,这种方法可以降低方程的迭代次数约40%,并明显减少方程的求解时间.
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