双沟道实空间电子转移晶体管的设计、研制和特性测量

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hanhan188
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采用双沟道结构和GaAs衬底,成功设计研制了双沟道实空间电子转移晶体管.它具有RSTT典型的“A”形负阻,V特性和较宽的平坦谷值区.通过栅压可改变各种负阻参数值,当栅压从0.6V增至1.0V时,PVCR的变化范围是2.1~10.6,峰值电流跨导约为3×10^-4 S.负阻参数Vp,Vv和开始产生负阻的栅极阈值电压都小于国际上同类器件的报道值,因此更适合低功耗的运用.
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