【摘 要】
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采用反应溅射在多靶溅射仪上制备了调制周期小于73.2 nm的一系列TaN/NbN纳米多层膜和TaN,NbN单层薄膜,并采用透射电子显微镜、显微硬度计和凹坑研磨仪研究了薄膜的微结构、力
【机 构】
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上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
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采用反应溅射在多靶溅射仪上制备了调制周期小于73.2 nm的一系列TaN/NbN纳米多层膜和TaN,NbN单层薄膜,并采用透射电子显微镜、显微硬度计和凹坑研磨仪研究了薄膜的微结构、力学性能和耐磨性.结果表明,具有成分周期变化的TaN/NbN纳米多层膜在其调制周期为2.3～17.0 nm范围内产生硬度异常升高的超硬效应,最高硬度达到HK 51.0 GPa;磨损实验表明,TaN/NbN纳米多层膜耐磨性远高于TaN和NbN单层膜,其主要原因是调制结构中大量界面的存在,提高了薄膜的韧性.
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