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报道了一种利用原子层淀积(ALD)生长超薄(3.5nm)A1203为栅介质的高性能AIGaN/GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管(MOS-HEMT),新型AIGaN/GaNMOS-HEMT器件栅长1μm,栅宽120μm,栅压为+3.0V时最大饱和输出电流达到720mA/mm,最大跨导达到130mS/mm,开启电压保持在-5.0V,特征频率和最高振荡频率分别为10.1和30.8GHz.