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抛光工艺对硅片表面Haze值的影响

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ZHANQIWEI

【摘 要】

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技

【作 者】

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王永涛  赵而敬  尚锐刚  李明飞  鲁进军  张建  蔡 

【出 处】

：

半导体技术

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

Haze值 化学机械抛光(CMP) 微粗糙度 抛光液 硅片 

【基金项目】

：

国家科技重大专项资助项目(2008ZX02401)

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技术领域,包括主机、控制电路和计算机三部分组成,主机包括由棱镜。敏感膜敏感芯片、半导 Ue*M#

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