【摘 要】
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目前光学减反光膜、 光学装饰膜等广泛应用于消费电子行业,这些光学膜主要采用电子束蒸发和反应磁控溅射等方式制造.传统的反应磁控溅射光学膜具有致密度高、 附着力好、 颜
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目前光学减反光膜、 光学装饰膜等广泛应用于消费电子行业,这些光学膜主要采用电子束蒸发和反应磁控溅射等方式制造.传统的反应磁控溅射光学膜具有致密度高、 附着力好、 颜色稳定等优点, 但过氧态沉积速率低, 生产效率不高. 本文利用等离子体辉光发射监控技术 （PEM） 来稳定控制中频反应溅射过程中的靶状态, 使靶材稳定在过渡态镀膜,既提高沉积速率, 又不影响光学性能.实验结果表明, 采用 PEM 反馈控制中频反应溅射制备氧化铌薄膜, 777 nm 处氧辉光强度设定值为 40%时 （过氧态标定为 90%） , 沉
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