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对聚焦离子束（FIB）的基本刻蚀性能进行了实验和研究，通过扫描电镜对FIB刻蚀坑的观测，给出了在不同材料上（硅、铝和二氧化硅）FIB的刻蚀速率及刻蚀坑的形貌同离子束流大小的关系。由于不同材料的原子结合能、原子量及晶体结构等因素对离子束溅射产额的影响，从而影响着离子束的刻蚀速率；随着离子束流的增大，刻蚀速率并非线性增加，且刻蚀坑的形貌越来越不均匀，对此也作了系统的分析和探讨。