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概述了用于45nm节点的各种光刻技术发展现状及技术路线，结合国际半导体技术发展指南（ITRS）和各公司最新宣布的研究成果，探讨了各种光刻技术用于32nm节点的可能性。
向32nm迈进的光刻技术
【摘 要】
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概述了用于45nm节点的各种光刻技术发展现状及技术路线，结合国际半导体技术发展指南（ITRS）和各公司最新宣布的研究成果，探讨了各种光刻技术用于32nm节点的可能性。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2007年4期
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