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硫化压力对FeS2薄膜结构和光学性能的影响
硫化压力对FeS2薄膜结构和光学性能的影响
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chenfenglianxi
【摘 要】
:
通过磁控溅射法制备Fe膜,再在S气氛中用热硫化法使其转变成为多晶FeS2薄膜,硫化压力分别为40,、60、80和100kPa,并研究了硫化压力对FeS2薄膜的结构和光学性能的影响。研究发现,在80kPa条件下,结晶状况达到最佳,光
【作 者】
:
徐文雷
孟亮
【机 构】
:
浙江大学材料科学与工程学系
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1999年12期
【关键词】
:
硫化铁薄膜
结构
光学性能
硫化压力
半导体材料
【基金项目】
:
中国博士后科学基金
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通过磁控溅射法制备Fe膜,再在S气氛中用热硫化法使其转变成为多晶FeS2薄膜,硫化压力分别为40,、60、80和100kPa,并研究了硫化压力对FeS2薄膜的结构和光学性能的影响。研究发现,在80kPa条件下,结晶状况达到最佳,光吸收系数较高,禁带宽度可达到0.9eV。
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