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利用射频磁控溅射法，以高纯氧化镱（Yb2O3）为靶材，成功地制备出了Yb2O3薄膜，并对薄膜的沉积速率、成分、结构和光学性能进行了研究。结果表明，制备的薄膜中Yb和O元素结合形成了Yb2O3化合物；薄膜为具有立方结构的多晶体；在波长0．8μm以上薄膜的折射率约为1．66，吸收很小。
射频磁控溅射法制备氧化镱薄膜
【摘 要】
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利用射频磁控溅射法，以高纯氧化镱（Yb2O3）为靶材，成功地制备出了Yb2O3薄膜，并对薄膜的沉积速率、成分、结构和光学性能进行了研究。结果表明，制备的薄膜中Yb和O元素结合形成了Yb2O3
【机 构】
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西北工业大学材料科学与工程学院
【出 处】
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稀有金属材料与工程
【发表日期】
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2007年A03期
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