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真空蒸发制备高质量ITO薄膜的化学过程

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hezhimou
【摘 要】
：
用真空热蒸发法在硼硅玻璃基片上获得了高质量的ITO透明导电膜(R□=6.2Ω/□,T=90%,ρ=7.13&#215;10<sup>-5</sup>Ωcm)。用ESCA对ITO薄膜的致黑因素进行了研究,发现化学计量
【作 者】
：
陈志 杨开愚 
【机 构】
：
电子科技大学,电子科技大学
【出 处】
：
真空科学与技术学报
【发表日期】
：
1990年2期
【关键词】
：
真空蒸发 化学过程 透明导电膜 玻璃基片 透过率 化学计量比 氧化反应 摩尔浓度 源材料 表面温度 
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用真空热蒸发法在硼硅玻璃基片上获得了高质量的ITO透明导电膜(R□=6.2Ω/□,T=90%,ρ=7.13×10<sup>-5</sup>Ωcm)。用ESCA对ITO薄膜的致黑因素进行了研究,发现化学计量比偏移是造成透过率降低的主要原因之一。提出了一个新的化学蒸发模型,认为氧化反应不但发生在基片上,也发生在蒸发源的表面附近。源的表面温度控制着化学平衡In<sub>2</sub>O（g）+O<sub>2</sub>（g）（?）
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