【摘 要】
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摘要：采用提拉法生长了不同晶体的双折射梯度和抗光损伤能力。实验结果表明晶体有较好的光学均匀性，随着Li/Nb比的增加，晶体抗光损伤能力增强，并分析了其抗光损伤能力增强的机理。结合LiNbO3晶体的锂空位缺陷模型和占位机制解释了相关实验结果。
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摘要：采用提拉法生长了不同晶体的双折射梯度和抗光损伤能力。实验结果表明晶体有较好的光学均匀性，随着Li/Nb比的增加，晶体抗光损伤能力增强，并分析了其抗光损伤能力增强的机理。结合LiNbO3晶体的锂空位缺陷模型和占位机制解释了相关实验结果。
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